ファイファー真空 HiPace 80 ターボ分子ポンプ

コンパクトなパッケージで確実な高真空発生

このターボ分子ポンプは、クリーンで信頼性が高く、メンテナンスが容易な高真空を必要とする用途向けに設計されています。窒素の排気速度 67 l/s、1 x 10¹¹ を超える圧縮比、1 x 10-7 hPa 未満の到達圧力を備えたこのターボ ポンプは、重量わずか約 2.9 kg でありながら実験室グレードの真空性能を実現しており、このクラスで最も軽量なソリューションの 1 つとなっています。

高度なベアリングとローター技術

このポンプは、高真空側の摩耗のない永久磁気ベアリングと低真空側の潤滑ボールベアリングを組み合わせたハイブリッドベアリングコンセプトを採用しています。この設計により、振動と騒音を最小限に抑えながら耐用年数を延長でき、精密にバランスがとれたローターにより、最大 90,000 rpm の速度でスムーズで安定した回転が保証されます。その結果、最小限の注意で何年も継続的に動作できる、非常に静かで安定した高真空ポンプが実現しました。

柔軟な設置と簡単な統合

従来の真空システムとは異なり、このターボ分子ポンプは任意の方向に取り付けることができるため、質量分析計、電子顕微鏡、コンパクトなプロセスツールなどのスペースに制約のある機器に取り付けることができます。電子駆動ユニットがポンプに統合されているため、システム設計が簡素化され、最大消費電力がわずか 110 W なので、ターボ ポンプはポータブルなバッテリ駆動の機器にも適しています。 RS-485 およびリモート インターフェイスは、ホスト システムからの監視と制御をサポートします。

適用範囲

一般的なアプリケーションには、質量分析およびガス分析、ヘリウム漏れ検出、電子顕微鏡、表面分析および UHV 研究システム、薄膜コーティング、真空炉などがあります。高真空ポンプは、研究室の研究開発や、安定した信頼性の高い真空が不可欠な工業プロセス環境でも同様に役に立ちます。

低い所有コスト

このターボ ポンプは、約 4 年のメンテナンス間隔と簡単に交換できるサービス キットにより、ダウンタイムと運用コストの両方を低く抑えます。空冷とIP54保護により、標準機器キャビネットにすっきりと設置でき、連続運転中でもポンプは静かに低温で動作します。

電源

ポンプは統合された電子駆動ユニットを介して 24 V DC で駆動され、対応するコントローラーは 115 ～ 230 V、50/60 Hz の AC 主電源に対応し、ほとんどの国の電力システムをカバーします。